Canon построит в Японии завод по производству оборудования для производства микросхем стоимостью $345 млн

Новый завод будет построен в префектуре Точиги и начнет работать весной 2025 года. Инвестиции составят более 50 миллиардов иен (345 миллионов долларов США), включая затраты на строительство и установку производственного оборудования. Компания намерена удвоить свои текущие мощности.

Новый завод будет построен на свободном участке площадью около 70 000 кв. м на территории существующего завода. Это будет первый новый завод по производству литографического оборудования, построенный компанией Canon за 21 год. Строительство начнется в 2023 году.

Ожидается, что в 2022 году продажи оборудования для литографии полупроводников вырастут на 29% в годовом исчислении и достигнут 180 единиц, что в четыре раза больше, чем 10 лет назад. Новый завод поможет удовлетворить этот растущий спрос.

Canon контролирует 30% мирового рынка оборудования для литографии в натуральном выражении, уступая ASML, на долю которой приходится 60%.

Компания также будет разрабатывать технологию следующего поколения под названием "наноимпринтная литография". Она позволяет травить новейшие тонкие микросхемы по более низкой цене, чем существующее оборудование для литографии. Процесс упрощается с помощью метода, который вытравливает схемы как при штамповке, что снижает производственные затраты. Компания Canon возглавляет разработку новой технологии, а японские компании Kioxia и Dai Nippon Printing принимают в ней участие.

В настоящее время для формирования схем на нанометровом уровне, равном одной миллиардной части метра, необходимо оборудование, использующее технологию, известную как экстремальный ультрафиолет (EUV). Европейский поставщик оборудования для производства микросхем ASML является единственным источником этой технологии.

Но это оборудование дорогостоящее, стоимостью около 20 миллиардов иен за единицу, и потребляет много энергии. Если наноимпринтную литографию удастся применить на практике, Canon ожидает, что производственные затраты на процесс литографии снизятся до 40%, а энергопотребление - до 90% по сравнению с EUV. Компания стремится расширить продажи наноимпринтной литографии, чтобы сломать доминирование ASML на рынке.

Nikkey

@TsarS
05.10.2022 11:49 UTC
Первоисточник

Комментарии

@amartology
05.10.2022 09:32 UTC
+2

Новый завод
Инвестиции составят более 50 миллиардов иен

Оборудование дорогостоящее, стоимостью около 20 миллиардов иен за единицу

Инвестиции в завод, равные двум с половиной единицам продукции конкурента - это красиво.

@TsarS
05.10.2022 13:51 UTC
0

Ну конечно, по сравнению с:

Micron объявила о планах инвестирования до $100 млрд в ближайшие 20 лет в создание "мегафабрики" в городе Клей, штат Нью-Йорк. В Micron отмечают, что этот проект не был бы возможен без запуска в США действия Закона о чипах и науке, который предусматривает возможность частичного государственного финансирования подобных проектов. До 2030 года Micron собирается инвестировать в новое производство $20 млрд. Начало производства на новом заводе Micron в Клэе намечено на 2026 год, строительство начнется в 2024 году.
В следующие 20 лет проект создаст около 50 тысяч рабочих мест, 9 тысяч для работников Micron, остальные для поставщиков, подрядчиков и т.п. Порядка $500 млн Micron и штат Нью-Йорк обещали потратить на обучение населения и работников предприятия. Нью-Йорк обещает вложить в проект $5,5 млрд, поэтапно, по мере достижений Micron в создании рабочих мест.

эта новость выглядит не очень, но меня заинтересовала больше "новая технология"

05.10.2022 16:13 UTC
0

меня заинтересовала больше "новая технология"

Она была бы интересной, если бы была новой. А на самом деле мы имеем в очередной раз откопанную стюардессу. Уже лет пятнадцать как ее списали в утиль все потенциальные клиенты.

07.10.2022 10:34 UTC
0

Так вроде сначала мягкий рентген тоже отвергли для литографии, а потом доработали